鹽霧試驗箱廠家 試板的裸露方式，不可將鹽霧試驗箱廠家 試板置放在霧粒從噴頭出去的平行線運動軌跡上。每片試板的受試表層朝上，與垂直線交角是20°士5°。注:裸露于鹽霧箱中的每片試板的放置視角是很重要的。
 

 

　　當有不一樣樣子的上漆產(chǎn)品工件實驗時，裸露方式由相關層面商談。開展這類實驗時，尤其關鍵的是應將這種不一樣樣子的構件按其一切正常情況置放。在這里規(guī)定下，構件置放應盡量防止防礙氣旋的流動性。假如構件防礙了氣旋的流動性，別的試板和構件則不可以另外開展實驗。試板鍍層的毀壞水平隨置放的方向不一樣而不一樣，對于此事應給與適度的考慮到。

 

　　鹽霧試驗箱廠家 試板的排序應不使其相互之間觸碰或與殼體觸碰，受試表層應裸露在耐腐蝕能無阻攔地地基沉降的地區(qū)。

 

　　鹽霧試驗箱廠家 內的唯有應是(35土2)C。對總面積為80Cm2的水準噴霧器搜集設備而言，在小周期時間為24小時側得的耐腐蝕水溶液的均值搜集速度應是1米L/h~25mL/h。搜集到的水溶液的氯化鈉濃度應是(50土10)gL，pH值應是6.5~7.2。已噴霧器過的實驗水溶液不可多次重復使用。

 

　　應開展2次平行測定;按照規(guī)定的標準，開展調節(jié)。將試板(或構件)排污在鹽霧試驗箱廠家 內。關掉鹽霧試驗箱廠家 并使實驗水溶液根據(jù)噴頭剛開始流動性。在全部要求實驗周期時間內要持續(xù)噴霧器。由于查驗、重新排序或取下試板;定期檢查填補儲槽中的水溶液;及其查驗是不是考慮要求的標準等而短期內的日常終斷以外。